p; 具体技术上,DNP的10nm纳米压印技术采用SADP自对准双重图案技术,一次曝光+两次图案能够制造成双倍精度的芯片,可以满足先进工艺逻辑芯片的要求,而且功耗优势明显,DNP公司称其能耗只有当前主流工艺的1/10左右。 该公司已经研发NIL技术超过20年,目前的技术已经可以部分替代EUV光刻,为芯片制造商提供另一种高精度工艺
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发布时间:01:04:56
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